| 중국 고성능 ITO 타깃재 핵심기술 확보로 국산화 촉진 | ||
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□ 정저우대학 He Jilin(何季麟) 원사 연구팀은 고성능 ITO 타깃재 제조공정 핵심기술･장비의 차보즈 기술문제를 해결 (4.18)
* 산화인듐주석(Indium Tin Oxide) 타깃재는 반도체 웨이퍼, 디스플레이 패널 및 태양전지 등 표면박막을 제조하는 핵심소재
○ 중국은 세계 최대의 인듐(In) 자원 보유국이자 생산국임에도 불구하고 고성능 ITO 타깃재의 절반 이상을 수입에 의존하는 상황
- 세계 최대의 인듐(In) 자원 보유국으로 매장량이 1만3,014톤에 달하며, 세계 최대의 인듐 생산국으로 전 세계 생산량의 80% 차지
- 반도체, 디스플레이 및 태양전지 산업의 급속한 발전에 따라 ′19~′21년간 중국 내 ITO 타깃재 수요량은 639톤에서 1,002톤으로 증가, 연평균 증가율이 25.22%를 기록
※ 2019년 전 세계 ITO 타깃재 시장 규모는 1,680톤이며, 그중 중국이 49%를 차지하여 세계 1위 차지
- 한국과 일본이 국제 ITO 타깃재 시장의 80%를 독점하고 있으며, 대표 기업으로는 한국 삼성, 일본 제이에스(JX) 금속, 미쓰비시 광업, 토소(Tosoh) 등이 있음
 ○ 이에 정저우대학 He Jilin(何季麟) 원사 연구팀은 푸지엔 Acetron(阿石创) 신소재 회사와 공동 연구를 통해 고성능 ITO 타깃재 제조공정 핵심기술･장비의 핵심기술을 개발
- 공동 연구팀이 수행한 ‘디스플레이용 고성능 ITO 타깃재 제조 핵심기술 및 공정화’ 프로젝트는 ′20년도 국가과학기술발명 2등상 수상
- ITO 타깃 나노 분말 제조, 고밀도 성형, 무압산소 분위기 소결 및 대규격 ITO 타깃재 제조 핵심기술을 인정
- ITO 타깃재 제조 공정프로세스 정립, 전체 프로세스에 대한 공정장비, 제어표준 제정
○ Acetron(阿石创) 신소재는 R&D 투자를 지속적으로 늘려 고성능 ITO 타깃재 핵심제품의 국산화에 주력해오고 있음
- ′18~′20년 기간 R&D 투자를 지속적으로 늘려왔고 ′20년 R&D 투자액은 1,908.1만 위안으로 전년 대비 26.2% 증가해 매출수입의 5.3% 차지
- ITO 타깃재 제품은 국내 최초로 세계 최대 패널 생산업체인 BOE의 고세대(High generation) TFT 생산라인에 성공적으로 응용되어 수입품을 완전히 대체
○ 향후 투자펀드 및 인수합병을 통해 ITO 타깃재 생산라인 확장할 계획
- 디스플레이 스퍼터링 타깃재 프로젝트*, 초고화질 디스플레이 구리 타깃재 산업화 프로젝트, 알루미늄-스칸듐 타깃재 및 몰리브덴 타깃재 R&D 프로젝트 5.3억 위안 모금
※ 그중 디스플레이 스퍼터링 타깃재 프로젝트는 공사기간이 3년으로 완공되면, 연간 몰리브덴 타깃재 800톤, 알루미늄 타깃재 350톤 및 실리콘 타깃재 50톤 규모의 생산능력을 갖출 예정
- 디스플레이 타깃재 생산능력을 연간 1,200톤으로 확장하였고, 타깃재 제조업체인 창저우 수징(常州苏晶)을 인수하여 디스플레이 타깃재 분야에서 시장 점유율과 경쟁력 제고
 <참고자료>
中国研制出ITO靶材，科技领先世界，打破日本垄断局面
溅射靶材行业技术水平特点及面临的机遇
铟资源分布及产量情况
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